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8月17日音讯，羲之据国内媒体报道，国刻光刻近来，刀首全国首台国产商业电子束光刻机在杭州“出炉”，台国其精度比肩世界干流设备，产商出炉标志着量子芯片研制从此有了“我国刻刀”。业电异
在杭州城西科创大走廊的束光浙江大学效果转化基地测验现场，一台容貌酷似大型钢柜的刻机机器正在做使用测验，电子显示屏上不断闪烁着实时参数。和E何差
团队负责人表明，羲之这不是国刻光刻一般的机器，而是刀首一支能在头发丝上雕琢出整座城市地图的“纳米神笔”。依托省要点实验室，台国这台研究院自主研制的产商出炉新一代100kV电子束光刻机“羲之”已正式投入市场。
据了解，业电异“羲之”取名自书法家王羲之，只不过它的‘毛笔’是电子束，在芯片上刻写电路。
研制团队相关负责人介绍，这台设备专攻量子芯片、新式半导体研制的中心环节，它经过高能电子束在硅基上“手写”电路，精度到达0.6nm，线宽8nm，可灵敏修正规划无须掩膜版，如同用纳米级毛笔在芯片上精准作画，特别合适芯片研制初期的重复调试。
此前，此类设备受世界出口操控，我国科学技能大学、之江实验室等国内顶尖科研机构长时间无法收购，“羲之”的落地有望打破这一困局。
其定价低于世界均价，现在已与多家企业及科研机构打开接洽。
那电子束光刻机和咱们常常听到的EUV光刻机有何差异呢？
电子束光刻机（Electron Beam Lithography，EBL）是半导体制作中一种要害的图形化技能。电子束光刻选用电子源，使用电子束炮击电子抗蚀剂，被电子辐照过的抗蚀剂产生分子链重组，然后留下相应痕迹。经过电磁场操控电子束的运动方向，改动电子束在抗蚀剂上写入的轨道，进而在基底上得到需求的图画信息。
不过，电子束光刻机选用逐点扫描的方法，扫描速度慢，每几个小时才干 “雕琢”1片晶圆，功率远低于EUV 光刻机。但精度更高，如 “羲之” 电子束光刻机精度达0.6nm。
相比之下，EUV光刻机使用极紫外光（13.5nm）作为能量源，经过掩模版投影的方法，全片一次性曝光来完成图画搬运，功率更高。精度相对较低，ASML出产的High NA EUV光刻机精度可达2nm水平。
所以，电子束光刻机合适小批量高精度需求，如高端芯片的小批量出产、改善迭代，以及掩模版制作等。
而EUV光刻机首要用于大规模集成电路制作，如 CPU、DRAM 等商业化半导体出产。
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